Chip China2008 之
先进光刻技术研讨会顺利闭幕
由《半导体科技》杂志社与上海市集成电路行业协会联合举办的晶芯2008(ChipChina2008)系列会议的第二部分——“先进光刻技术研讨会”于2008年8月28日在上海成功举办,这次研讨会得到了ASML、罗门哈斯电子材料、中芯国际以及上海华虹NEC电子以及世芯电子等公司的大力支持,根据主办方的统计,出席次此研讨会的人员有100人,他们绝大多数是身处研发和技术等一线的经理和工程师,包括SMIC中芯国际、GSMC宏力、华虹NEC、HEJIAN和舰科技、ASMC先进……
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